1 (p1): 第一章 纳米晶金刚石膜概述 2 (p2): 第一节 纳米晶金刚石膜的研究概况 6 (p3): 第二节 纳米金刚石薄膜的制备技术 6 (p4): 一、纳米金刚石膜的制备设备 11 (p5): 二、纳米金刚石膜的制备工艺 16 (p6): 第三节 纳米金刚石膜的应用前景 16 (p7): 一、摩擦磨损 18 (p8): 二、冷阴极场发射 18 (p9): 三、电化学应用 19 (p10): 四、微型机电领域 19 (p11): 五、光学涂层 20 (p12): 六、其他应用 28 (p13): 第二章 纳米金刚石膜的制备设备与表征手段 28 (p14): 第一节 纳米金刚石膜制备设备 30 (p15): 第二节 热阴极等离子体的光发射谱检测 31 (p16): 一、等离子体的光发射谱诊断 31 (p17): 二、光纤光谱仪检测等离子的测量原理 34 (p18): 三、光发射谱及等离子体基本参数的测量 36 (p19): 四、光发射谱(OES)在金刚石膜沉积中的应用 39 (p20): 第三节 纳米金刚石膜的形貌、结构和性能表征 39 (p21): 一、扫描电子显微镜(SEM) 40 (p22): 二、激光拉曼光谱(Raman Shift) 43 (p23): 三、X射线衍射(XRD) 44 (p24): 四、金刚石膜的电学性能表征 52 (p25): 第三章 气体的直流辉光放电理论 53 (p26): 第一节 低压气体的放电与击穿 56 (p27): 第二节 低压气体的直流辉光放电 57 (p28): 一、阴极区 58 (p29): 二、阴极区性质 62 (p30): 三、正柱区 62 (p31): 四、正柱区粒子分布 68 (p32): 第三节 高气压下的直流辉光放电特点 68 (p33): 一、起辉过程 68 (p34): 二、高气压下的直流辉光放电的放电状态 71 (p35): 第四节 等离子体中气体的分解 71 (p36): 一、气体的激发与电离 72 (p37): 二、等离子体中的反应 76 (p38): 第四章 CH4/H2体系制备纳米金刚石膜 76 (p39): 第一节 CH4/H2体系制备纳米金刚石膜的原理 77 (p40): 一、表面预处理提高纳米金刚石形核密度 77 (p41): 二、纳米金刚石膜的气相形核 79 (p42): 三、纳米晶金刚石膜的生长 81 (p43): 第二节 氢甲烷气体体系制备纳米金刚石膜工艺 81 (p44): 一、样品制备 81 (p45): 二、结果与讨论 91 (p46): 本章小结 94 (p47): 第五章 Ar/H2/CH4气体体系制备纳米金刚石膜 94 (p48): 第一节 Ar/H2/CH4体系沉积纳米金刚石膜机理 94 (p49): 一、Ar/H2/CH4体系制备纳米金刚石薄膜的生长基团 96 (p50): 二、Ar气在纳米金刚石薄膜制备过程中的作用分析 99 (p51): 第二节 Ar/H2/CH4气体体系制备纳米金刚石膜工艺研究 99 (p52): 一、衬底表面预处理 100 (p53): 二、样品制备参数 100 (p54): 三、结果与讨论 109 (p55): 本章小结 113 (p56): 第六章 纳米金刚石膜的硼掺杂研究 113 (p57): 第一节 金刚石膜的硼掺杂研究概述 114 (p58): 一、概述 116 (p59): 二、掺硼金刚石膜的研究现状 117 (p60): 三、掺硼金刚石膜的应用 120 (p61): 第二节 硼掺杂纳米金刚石膜的制备与物性 120 (p62): 一、硼掺杂纳米金刚石膜的制备 122 (p63): 二、结果与讨论 129 (p64): 三、掺硼金刚石膜的电学性质 132 (p65): 本章小结 138 (p66): 第七章 全书总结

zlibzh/no-category/彭鸿雁，赵立新著/纳米晶金刚石膜的制备与物性_43306133.pdf

老帕定调 胜利收官

Heilongjiang Education Publishing House

北京晨报

China, People's Republic, China

第A16版: 体育新闻

Bookmarks: p1 (p1): 第一章 纳米晶金刚石膜概述
p2 (p2): 第一节 纳米晶金刚石膜的研究概况
p3 (p6): 第二节 纳米金刚石薄膜的制备技术
p4 (p6): 一、纳米金刚石膜的制备设备
p5 (p11): 二、纳米金刚石膜的制备工艺
p6 (p16): 第三节 纳米金刚石膜的应用前景
p7 (p16): 一、摩擦磨损
p8 (p18): 二、冷阴极场发射
p9 (p18): 三、电化学应用
p10 (p19): 四、微型机电领域
p11 (p19): 五、光学涂层
p12 (p20): 六、其他应用
p13 (p28): 第二章 纳米金刚石膜的制备设备与表征手段
p14 (p28): 第一节 纳米金刚石膜制备设备
p15 (p30): 第二节 热阴极等离子体的光发射谱检测
p16 (p31): 一、等离子体的光发射谱诊断
p17 (p31): 二、光纤光谱仪检测等离子的测量原理
p18 (p34): 三、光发射谱及等离子体基本参数的测量
p19 (p36): 四、光发射谱（OES）在金刚石膜沉积中的应用
p20 (p39): 第三节 纳米金刚石膜的形貌、结构和性能表征
p21 (p39): 一、扫描电子显微镜（SEM）
p22 (p40): 二、激光拉曼光谱（Raman Shift）
p23 (p43): 三、X射线衍射（XRD）
p24 (p44): 四、金刚石膜的电学性能表征
p25 (p52): 第三章 气体的直流辉光放电理论
p26 (p53): 第一节 低压气体的放电与击穿
p27 (p56): 第二节 低压气体的直流辉光放电
p28 (p57): 一、阴极区
p29 (p58): 二、阴极区性质
p30 (p62): 三、正柱区
p31 (p62): 四、正柱区粒子分布
p32 (p68): 第三节 高气压下的直流辉光放电特点
p33 (p68): 一、起辉过程
p34 (p68): 二、高气压下的直流辉光放电的放电状态
p35 (p71): 第四节 等离子体中气体的分解
p36 (p71): 一、气体的激发与电离
p37 (p72): 二、等离子体中的反应
p38 (p76): 第四章 CH4/H2体系制备纳米金刚石膜
p39 (p76): 第一节 CH4/H2体系制备纳米金刚石膜的原理
p40 (p77): 一、表面预处理提高纳米金刚石形核密度
p41 (p77): 二、纳米金刚石膜的气相形核
p42 (p79): 三、纳米晶金刚石膜的生长
p43 (p81): 第二节 氢甲烷气体体系制备纳米金刚石膜工艺
p44 (p81): 一、样品制备
p45 (p81): 二、结果与讨论
p46 (p91): 本章小结
p47 (p94): 第五章 Ar/H2/CH4气体体系制备纳米金刚石膜
p48 (p94): 第一节 Ar/H2/CH4体系沉积纳米金刚石膜机理
p49 (p94): 一、Ar/H2/CH4体系制备纳米金刚石薄膜的生长基团
p50 (p96): 二、Ar气在纳米金刚石薄膜制备过程中的作用分析
p51 (p99): 第二节 Ar/H2/CH4气体体系制备纳米金刚石膜工艺研究
p52 (p99): 一、衬底表面预处理
p53 (p100): 二、样品制备参数
p54 (p100): 三、结果与讨论
p55 (p109): 本章小结
p56 (p113): 第六章 纳米金刚石膜的硼掺杂研究
p57 (p113): 第一节 金刚石膜的硼掺杂研究概述
p58 (p114): 一、概述
p59 (p116): 二、掺硼金刚石膜的研究现状
p60 (p117): 三、掺硼金刚石膜的应用
p61 (p120): 第二节 硼掺杂纳米金刚石膜的制备与物性
p62 (p120): 一、硼掺杂纳米金刚石膜的制备
p63 (p122): 二、结果与讨论
p64 (p129): 三、掺硼金刚石膜的电学性质
p65 (p132): 本章小结
p66 (p138): 第七章 全书总结

related_files:
filepath:纳米晶金刚石膜的制备与物性_12293200___.pdf — md5:47a8a39068e6dfa2e80f3305c7c99d6e — filesize:8658295
filepath:纳米晶金刚石膜的制备与物性_12293200.zip — md5:ae5671b0b5173dd5804d275bd897bdc0 — filesize:14742506
filepath:12293200.zip — md5:9120bf6319b0fb4eb2e477be4f880b13 — filesize:14742408
filepath:12293200.rar — md5:55a62e307c5dcf7e4baca80209771fce — filesize:14509244
filepath:12293200.zip — md5:1893be291o8b728c4eab4e743b4fba51 — filesize:14742408
filepath:/读秀/读秀3.0/读秀/3.0/3.0新/其余书库等多个文件/0069/173/12293200.zip
filepath:/读秀/读秀4.0/读秀/4.0/数据库32-2/12293200.zip

类型: 报纸

报纸名称: 北京晨报

出版日期: 2012.11.03

版次: 第A16版： 体育新闻

2024-06-13